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簡(jiǎn)要描述：UNIPOL-1000D雙盤(pán)壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域，廣泛使用于大專(zhuān)院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學(xué)材料（如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體）、巖樣、礦樣、有機(jī)高分子材料、復(fù)合材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光，以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。
產(chǎn)品型號(hào)：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2025-02-12訪 問(wèn) 量：1094| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 5萬(wàn)-10萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 建材/家具,航空航天,汽車(chē)及零部件,電氣,綜合 |
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：UNIPOL-1000D雙盤(pán)壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域，廣泛使用于大專(zhuān)院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學(xué)材料（如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體）、巖樣、礦樣、有機(jī)高分子材料、復(fù)合材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光，以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。該研磨拋光機(jī)設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位，可以分別進(jìn)行研磨、拋光操作，既避免了交叉污染，又提高了工作效率。本機(jī)采用機(jī)械加壓模式對(duì)被研磨樣品加壓，壓力施加于載物盤(pán)的中心，使整個(gè)載物盤(pán)受力均勻。通過(guò)手觸控制屏對(duì)設(shè)備進(jìn)行控制，上盤(pán)可以進(jìn)行順時(shí)針旋轉(zhuǎn)也可以進(jìn)行逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)，下盤(pán)作順時(shí)針旋轉(zhuǎn)，通過(guò)樣品盤(pán)的材質(zhì)不同可以選擇上盤(pán)的旋轉(zhuǎn)方向。機(jī)器工作過(guò)程中噪音小，具有研磨定時(shí)功能，時(shí)間到機(jī)器自動(dòng)停止，可以實(shí)現(xiàn)無(wú)人看守工作。
| 產(chǎn)品名稱(chēng) | UNIPOL-1000D雙盤(pán)壓力研磨拋光機(jī) | |||
產(chǎn)品型號(hào) | UNIPOL-1000D | |||
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有上水口及下水口，需自行連接自來(lái)水及排水 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：無(wú) 4、工作臺(tái)：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置：不需要 | |||
主要特點(diǎn) | 1、設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位，可分別進(jìn)行研磨、拋光操作。 2、中心加載壓力，壓力穩(wěn)定可靠。 3、性能優(yōu)良，操作簡(jiǎn)單，適用范圍廣。 | |||
技術(shù)參數(shù) | 1、電源：220V 50Hz 2、載物盤(pán)：?150mm 3、桃型孔：?25.4mm 4、磨拋盤(pán)：?250mm 5、載物盤(pán)（上盤(pán)）轉(zhuǎn)速：10rpm-80rpm（無(wú)級(jí)調(diào)速） 6、磨拋盤(pán)（下盤(pán)）轉(zhuǎn)速：50rpm-400rpm（增量調(diào)速，最小增量10） 7、壓力：0.5kg-20kg（最小增量0.5kg） | |||
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸：780mm×590mm×750mm；重量：100kg | |||
地址：上海市華騰路1218號(hào)嘉壹智匯8層室
郵箱：347415387@qq.com
傳真：86-021-39529929
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